4.1.1 Διαδικασία βαφής
Η βαφή περιλαμβάνει την εφαρμογή μιας μικτής κόλλας-χρωστικής σε φιλμ PET ή μεταξύ δύο στρώσεων φιλμ PET χρησιμοποιώντας μια διαδικασία επίστρωσης και πλαστικοποίησης, χρωματίζοντας το υπόστρωμα PET για να επιτευχθούν διαφορετικά χρώματα ανάλογα με τις ανάγκες. Τα πλεονεκτήματα περιλαμβάνουν ποικιλία χρωμάτων, απλή διαδικασία και χαμηλό κόστος. Τα μειονεκτήματα περιλαμβάνουν κακή αντοχή στην υπεριώδη ακτινοβολία, εύκολο ξεθώριασμα και μικρή διάρκεια ζωής.
4.1.2 Τεχνολογία ψεκασμού υπό κενό
Η επίστρωση εξάτμισης υπό κενό χρησιμοποιεί θερμική εξάτμιση (για καθαρά μέταλλα με χαμηλές θερμοκρασίες τήξης) για την επικάλυψη μεμβρανών με διάφορα μέταλλα, κράματα ή επικαλύψεις οξειδίων. Ο ψεκασμός κενού χρησιμοποιεί συνήθως καθαρό αλουμίνιο και μπορεί να παράγει φιλμ με διαφορετική μετάδοση και ανάκλαση ορατού φωτός, με αποτέλεσμα τη βέλτιστη απόδοση ελέγχου του ηλιακού φωτός.
4.1.3 Διαδικασία Τεχνολογικής Διασκορπισμού Μαγνητρονίων
Η εκτόξευση μαγνητρονίων είναι μια προηγμένη διαδικασία που αναπτύχθηκε στα τέλη της δεκαετίας του 1970. Σε εξειδικευμένο εξοπλισμό κενού, υπό την επίδραση ηλεκτρικής ενέργειας, διάφοροι σύνθετοι στόχοι μετάλλων ή μετάλλων βομβαρδίζονται από φορτισμένα ιόντα για να δημιουργήσουν πολλαπλά πυκνά, χαμηλής{2}}ανακλάσεως, υψηλής-θερμότητας-μονωτικής μεμβράνης μετάλλων. Αυτές οι μεμβράνες στη συνέχεια επικαλύπτονται ομοιόμορφα και με τάξη στην επιφάνεια του υποστρώματος. Σε συνδυασμό με άλλες διεργασίες, διάφορα μοναδικά και σταθερά χρώματα, υψηλή επιλεκτικότητα μετάδοσης και επαρκής αντοχή διασφαλίζουν ότι το προϊόν είναι-αντεκρηκτικό, θερμομονωτικό, ανθεκτικό στην υπεριώδη ακτινοβολία-(99%) και έχει μεγάλη διάρκεια ζωής. Σε σύγκριση με τον παραδοσιακό ψεκασμό υπό κενό, ο ψεκασμός μαγνητρόν έχει πολλά πλεονεκτήματα, όπως ισχυρότερη πρόσφυση μεταξύ της επικάλυψης και του υποστρώματος. εύκολη παραγωγή λεπτών μεμβρανών υλικών υψηλού-σημείου τήξης-. πιο ομοιόμορφες λεπτές μεμβράνες σε συνεχή υποστρώματα-με μεγάλη επιφάνεια. και εύκολος έλεγχος της σύνθεσης επίστρωσης, επιτρέποντας την παραγωγή επικαλύψεων κραμάτων με διάφορες συνθέσεις και αναλογίες.
Η αρχή της επιμετάλλωσης μαγνητρόν είναι η τοποθέτηση του υποστρώματος σε θάλαμο κενού εξοπλισμένου με κάθοδο μάγνητρον και αέριο εκτόξευσης (αργό). Εφαρμόζεται αρνητική τάση στην κάθοδο, προκαλώντας εκκένωση λάμψης εντός του θαλάμου κενού για τη δημιουργία πλάσματος. Επειδή ο μεταλλικός στόχος είναι αρνητικά φορτισμένος, τα θετικά φορτισμένα ιόντα αερίων στο πλάσμα επιταχύνονται και βομβαρδίζουν την επιφάνεια στόχο με ενέργεια ισοδύναμη με την πτώση του ηλεκτροδίου στόχου (U), εκτοξεύοντας τα άτομα του μεταλλικού στόχου και αναγκάζοντάς τα να εναποτεθούν στην επιφάνεια του υποστρώματος για να σχηματίσουν μια μεταλλική μεμβράνη.
4.1.4 Σύνθετη διαδικασία πλαστικοποίησης
Η μεμβράνη γυαλιού παραθύρου είναι ένα πολυεστερικό πολυεστερικό σύνθετο φιλμ πολλαπλών στρώσεων. Διαφορετικά λειτουργικά στρώματα πλαστικοποιούνται μεταξύ τους χρησιμοποιώντας κόλλες, δίνοντάς του αντιεκρηκτική-αντοχή, θερμομόνωση-και λειτουργίες ασφάλειας.
Μόνο ένα σύστημα επίστρωσης υψηλής ακρίβειας μπορεί να εξασφαλίσει αποτελεσματικό έλεγχο διαφόρων παραμέτρων διεργασίας κατά τη διαδικασία κατασκευής της μεμβράνης γυάλινων παραθύρων.
